インテル、米政府からの助成措置確保で1000億ドルの設備投資へ

[サンタクララ（米カリフォルニア州）　２０日 ロイター] - 米政府は２０日、半導体インテル(INTC.O), opens new tabに対して補助金と融資で合計１９５億ドルの支援を提供すると発表した。２０２２年に成立した半導体投資法に基づく国内投資助成措置で、これを受けてインテルは４つの州で工場の建設や拡張に向け、総額１０００億ドルの投資に乗り出す。

インテルのゲルシンガー最高経営責任者（ＣＥＯ）は、１０００億ドルの資金のうち約３０％は施設建設関連費用に充当し、残りはＡＳＭＬ(ASML.AS), opens new tabや東京エレクトロン(8035.T), opens new tab、アプライド・マテリアルズ(AMAT.O), opens new tabなどからの半導体製造装置購入に振り向ける。

投資計画の目玉となるのはオハイオ州に建設する工場で、ゲルシンガー氏は「世界最大の人工知能（ＡＩ）半導体製造施設」になると説明した。同工場は早ければ２０２７年に稼働を開始する予定だが、市況次第で時期が遅れる可能性もあるという。

このほかニューメキシコ、オレゴンの施設改修やアリゾナでの設備拡張を行う方針。

インテルは今後、投資額の一定部分に適用される税制優遇措置も得られると期待している。